当前位置:首页 >> 其它课程 >>

信息材料 Chapter 6. Display Materials and Devices


Chapter 6. Display Materials and Devices
Display Categories
CRT ELD LED 自發光型 顯示器 VFD FED SED PDP 受光型 PALC LCD DLP
(Cathode Ray Tube) (Electro_Luminescence Display)

機ELD

無機ELD

(Light Emission Diode)
(Vacuum Fluorescence Display) (Field Emission Display) (Surface Conduction Electron Emitter Display) (Plasma Display Panel) (Plasma Address Liquid Crystal) (Liquid Crystal Display) (Digital Light Processing)

薄膜型

厚膜型
DC型 AC型

靜態驅動型
動態驅動型
1

Current Applications for Display
市場不斷成長

CRT Flat-CRT

視訊市場

?TV
資訊市場 ?Monitor ?NB

顯 示 器
FPD
LED:Light Emission Diode OLED:Organic Light Emission Diode VFD: Vacuum Fluorescence Display FED: Field Emission Display SED: Surface-conduction Emission Display

LED

OLED
PDP

LCD
VFD FED SED

可攜式市場 ?手機 ?PDA ?DSC ?DVC ?Car Display ?Screen Phone ?e-Book

2

三、 UV 固化与 CRT 荫罩、荧光点阵印刷

? 阴极射线管 显示器 制作与 光固化

3

荧光点阵制作 点距(Dot Pitch)

荧光屏制作:

4

荧光浆料

传统工艺:
? ? ? ? 水溶性树脂(明胶、PVA、丙烯酸共聚物…) K2Cr2O7 颜料(区分RGB) 荧光粉

Cr (VI) ? Cr (III)

5

Shadow mask(荫罩)制作
位于电子枪与荧光屏之间的微孔列阵合金钢薄片,用以过滤 漂移电子,防止荧光图像变形、发花。
? 超薄镍/钢合金薄片(低收缩)
? 涂覆感光抗蚀剂 ? 加盖掩膜

? 曝光
? 显影 ? 刻蚀,产生微孔点阵 ? 褪膜

CRT长达百年的历史,制作成本很低,不大可能运用过于先进

的材料,包括荧光点阵 与 荫罩 制作材料。

6

四、 在彩色PDP中的应用 ? What’s PDP ?
PDP structure
Bus electrode 汇流电极; Address electrode 选址电极; Barrier rib 壁障; Phosphor 荧光粉

彩色等离子体显示板(color Plasma Display Plate, PDP)是一种新 的平板显示器,是由二块玻璃基板、惰性气体、电极、障壁、荧光粉 (红R、绿G、蓝B)点阵、介质膜、MgO保护层膜等组成。
7

彩色PDP工作原理
使介质膜和MgO层表面上的惰性气体放电产生等离子体,辐射 出147 nm 紫外线,激发在背玻璃板上的荧光粉体发光,由RGB 三基色荧光粉显示全色彩。

利用玻璃壳体内封充的混合气体( Xe、Ne) 在透明电极之间加压,

彩色PDP比较特点 与 CRT 相比,彩色PDP重量更轻、功耗更小;与LCD 相比,彩色PDP是 一种主动发光器件,所以具有高亮度、宽视角、显示速度快、更易大型化。 8

PDP制作关键技术
? 彩色PDP分辨率愈高,电极、障壁、荧光粉点阵的图形就必须愈精 细化,荧光屏的亮度也愈高,贮存的信息容量也愈多。

? 彩色PDP的制作关键是电极、障壁、荧光粉点阵的微细化技术。

? 早先采用厚膜印刷工艺,将所需浆料丝网漏印至玻璃基板上,无论 是制电极,还是障壁、荧光粉点阵,都需要重复丝印十多次才能达 到几十微米至一百微米以上的厚度。受网板变形制约,对位精度差, 制成的电极、障壁、荧光粉点阵表面粗糙、边缘不整、图形精度和 定位精度差。

? 设计制造53cm以上的高分辨率(1280×1024像素点)彩色PDP 时,要求障壁的高度为130 ?m、宽度为30 ?m, 只能用光刻加工技 术来实现。

9

光固化技术制造PDP
? 将彩色PDP专用光刻浆料用丝网漏模法涂布在玻璃基板上,并 进行烘干,然后在涂层上固定住印有精细图形的胶片,经紫外 灯曝光、显影、淋洗干净后烘干即成。操作一次就可得到精度 高、边缘整齐、表面光洁的微细图形。 ? PDP专用光固化材料(彩色PDP专用光刻浆料): 1)制作电极的黑色光刻银浆和光刻导电银浆; 2)制作障壁的耐喷砂光致抗蚀剂; 3)制作RGB荧光粉点阵的含三基色荧光粉光刻浆料等。 ? 它们之间既有共性亦有特性:具有光敏性,可通过辐射固化采 用光刻技术来制作高分辨率的图形是其共同的特点; ? 而它们的特性却各不相同,如光刻导电银浆具有导电性、耐喷 砂光致抗蚀剂具有耐冲击性等等。
10

1)PDP壁障制作方法

11

光固化制作壁障示意图

12

Problems of barrier rib forming by conventional photosensitive paste process.

13

理想的壁障制作方案

要求: 深度刻蚀,而又不发生侧蚀!

? 简单、便捷

14

压模直接光固化玻璃浆料制作PDP壁障

Photoresist for barrier ribs: RFW030玻璃粉(Asahi Glass Co) 80 份, 环氧丙烯酸树脂 8.034 份, TEGDMA 4.326 份, 1,3-丁二醇 7 份, POCAII (phosphate polyoxyalkyl polyol, 分散剂, 3M) 0.12 份, A174 (硅烷偶联剂) 0.16份, Irgacure 819 0.16 份, BYK A555 (消泡剂) 0.20 份 混匀磨细,得玻璃浆料。涂布于玻璃基板上,压印透明模板(PC或光固化材料, 凸模),以30W蓝色光源(400~500nm)辐照30sec固化,揭膜,烧结。
关键: 树脂对玻璃粉得粘结性? 固化收缩? 固化深度? 压膜气泡释放? 烧结防龟裂?

15

2)微电极制作
? 透明前板电极: ITO层/导电银墨涂覆光刻胶或干膜,掩膜曝光,显影,Fe(NO3)3刻蚀,剥 离余胶,得透明前板微电极。 被板微电极: 抗蚀性导电银墨。

?

? ITO玻璃上制作汇流电极:
a) ITO玻璃表面涂覆光刻胶 (碱溶性) b) 加覆条形图案的掩膜,曝光

c) 喷淋Na2CO3溶液显影
d) 用50%盐酸 刻蚀裸露ITO层 e) 抗蚀剂保护条两端清除,露出部分ITO f) 在刻蚀部位 及 裸露ITO部位 电镀金属 g) 强碱洗脱固化胶层
16

3)荧光颜料油墨印刷
? 丙烯酸酯共聚物溶液(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸 乙酯/丙烯酸丁酯,固含45%) 132 份; ? 四乙二醇二丙烯酸酯 ? Irgacure 369 ? (Y,Gd)BO3:Eu3+ ? 低熔点玻璃粘结料 40 份; 3 份; 140 份; 3 份;

? 丁酮

30 份

17

五、 FED 相关部件制作与光固化技术
Mirotips 微尖制作:

FED可以看成超薄化了的CRT,基板上有成千 上万个微米尺寸的微尖充当电子枪,在对应选 址电极和门控栅极作用下,微尖射出电子,飞 向指定荧光粉象素元,刺激发出色光。

18

FED 电子发射微尖制作-1
1)传统方法(气相沉积)

19

FED 电子发射微尖制作-2
2) 过度刻蚀

20

FED 电子发射微尖制作-3
3)微球列阵遮光

21

六、 LED 制造、组装应用
白光LED 将获得广泛应用,市场剧烈扩张。

22

白光LED 主要原理
白光LED:半导体芯片(GaN/InGaN)激发出蓝光,刺激荧光粉发出宽分布 黄光,与剩余蓝光混色,射出白光。

23

大功率白光LED封装
? 传统工艺: 黄粉(发黄光的荧光粉)混入环氧粘合剂中,点胶于芯片上,再加热固化。 ? 问题: 1)环氧胶粘剂受热经历一低粘度阶段,引起胶液外流; 2)比重较大的黄粉沉降,导致出光颜色不均匀,黄边。 ? 解决: 光固化粘合剂固化快,虽也放热,但粘度来不及下降,即已固化,抑制黄粉沉降、 保证出光均匀,胶液不会外流。
1)发光芯片上直接滴胶 - 简单 光固化胶 + 荧光粉,环氧丙烯酸树脂为主。

GaN based LED structure 24

接触式:

25

2) 光固化间隔胶
对策:将荧光粉胶膜与发光芯片用透光材料隔离。 方法:光固化透明间隔胶。

背景:荧光粉胶膜直接接触发光芯片,芯片工作发热,导致荧光粉升温,发光效率下降。

特点: ?保护荧光粉免受高温,保证二次发光稳定、高效; ? 荧光粉薄层分布,避免沉降,围绕发光芯片分布更均匀;

? 节约昂贵的荧光粉。

26

黄边与蓝边
? 荧光粉部分不均匀,黄粉覆盖面积过小,蓝光从周边射出,导致蓝边。 ? 黄粉覆盖面积过大或周边黄粉过密,导致黄边。(另有环氧应力发黄机制)

27

Another UV curable spacer:

利用LED芯片自发蓝光预 固化,固化区域自主选择

光闸控制曝光区域大小

冲洗余胶

冲洗余胶

黄饼大小难匹配,可能出现黄边或蓝边。

自主匹配黄饼大小,避免黄边或蓝边。

28

LED 上的微小光学器件
Micro-optical elements: Diffractive optical elements (DOEs) e.g. 光栅、微透镜列阵等等。 ? 微小光学器件几平方毫米; ? 产生特定图形、光束形状等; ? 成本低廉; ? 移动电话、LED照明和平板显示背光源。

29

LED上微小光学器件效果

Diffractive optical elements created on a CD disk.

在微小光学器件的晶片级UV压印技术中,带有UV压 印微结构的玻璃晶片(左图)被切成一个个独立的器 件(上图),然后按照应用要求进行组装。通常切成 的方形器件的尺寸与小的电子器件相近,这意味着可 以使用标准封装,如常用的带卷封装

微小光学器件可以 直接装配到LED上

LED出光更加集中,强度更高

30

LED上微小光学器件制作
三种主要方法: ? Micro-injection moulding ? Etching ? UV embossing
光固化微米压印技术制作LED微小光学 器件。 In one process, a replica is fabricated using a UV-curable liquid polymer into a mould in a batch wafer-scale process. The parts produced have glass-like properties and can withstand reflow process temperatures (280oC), have low shrinkage, and are tolerant to temperature-shock treatment (ie Telcordia GR468 testing)

31

光固化微米压印技术

32

LED 包封胶折光率影响
? LED的出光率是关键指标; ? 影响因素很多;

? 半导体与包封环氧的差异较大是影响出光率的主要原因之一。
全反射临界角:

? c ? argsin

np nc

nc 为芯片折光率;np 为包封树脂折光率。 二者相差越大,全反射临界角越小,出 光率越低。

? 提高包封树脂折光率,缩小二者折光率差别,可降低全反射,同时减少界 面反射损失。 ? 界面反射率:

R?

(n c ? n p ) 2
2

(n c ? n p )

?100%

可以采用折光率较高的包封树脂
33

六、 OLED
? OLED 有 机 发 光 二 极 管 (Organic Light Emitting Diode),某些有机分子或大分子具有 与半导体类似性质,低电压刺激发光,并可快 速开关。 ? 号称终极显示器(手机、相机、电脑、电视等 等);

? 亮度高、视角宽、自发光、超薄(~1.6mm)、 可绕曲、高亮环境可视、驱动电压低(几伏~ 十多伏);
? 成本高、寿命短。

34

基本原理

35

OLED主要问题
Short lifetime! Why ?
? 微量氧气、水汽进入; ? 金属电极(Ca)氧化腐蚀; ? 有机发光层发生化学变化; ?发光效率降低; ?工作寿命缩短;

36

提高OLED工作寿命关键: @ 39℃ & 95% RH 透氧速率: <10-5 cc/m2/day

+

透水汽速率: <10-6 g/m2/day

OLED 工作寿命 ~ 10000 小时
37

必须有效阻隔水、氧侵入!
OLED 金属电极中有活泼金属钙: Ca + O2 + H2O ? Ca 腐蚀

Barix:
38 于薄膜上由聚合物涂层与无机沉积膜交替形成的复合膜结构,提高阻隔性。

OLED 必须严格密封 ! ? 边框密封; ? 薄膜密封。

密封材料需对玻璃、ITO、金属电极、聚合物膜PET等有优异附着性/黏附力
39

不同类型OLED

? 不同密封部位

40

常见聚合物阻湿性
? 聚合物材料具有中等到弱的 抗湿阻隔性; ? 氟炭树脂阻湿性佳,但不适 合用作黏合剂; ? PIB阻湿性出色,但机械强 度不够高,常与传统黏合剂 复配; ? 聚烯烃树脂大多具有较好的 抗 湿 阻 隔 性 能 。 如 TB1152B ;

?极性、亲水基团影响阻隔性;

? 聚合物材料由于链的不规则, 相互之间肯定留有极微小的 孔隙通道,最小的液滴无法 通过。但更小的气体、水分 子可以通过。
41

OLED 围边封装
光固化封装优势: 速度快,缩短固化时间,避免固化过程中的水、氧快速透过
硬板OLED
? 以玻璃板为基板,本身刚性致密,不形变,阻隔性优异; ? 侧面围边密封胶可以直接使用环氧主体UV胶,固化交联密度高, 具有较好阻湿、阻氧性;

高 Tg

42

软性OLED 密封

? 要求围边密封胶具有一定柔韧性; 低Tg ? 材料柔性意味结构中存在较大自由体积(通道),氧、水分 子较易通过;似乎矛盾! 如何提高阻隔性性? 如何选材? 如何评价?
43

材料阻隔性测评方法-calcium test
金属钙试验法:
1. 气相沉积金属钙薄膜于标准透明试验盒内; 2. 盒面覆盖毛面石英板,边缘以待测胶密封, 固化 ; 3. 臵于标准湿度、温度、亮度环境中,计时; 4. CCD摄像头监视试验盒变透明过程; 能表征,时间越长,性能越好。

氧气和水汽穿过待测材料与 5. 到完全变透明的时间即为材料阻氧、阻湿性 金属钙反应,导致变透明。

44

阻湿性能的热重评价法
密封胶固化后于标准湿热环境下老化一定时间,测定失重率。

45

OLED光固化密封胶参考策略
基本材料:
Adhesion promoter
GPS
CH3O OCH3 Si OCH 3 CH2CH2CH2OCH2CH O CH 2

APS
CH3O

OCH3 Si OCH 3 CH2CH2CH2NH2

ECH
CH3O

OCH3 Si OCH3 CH2CH 2 O

Dipodal silanes
OCH3 CH3O Si OCH3 CH2CH2 OCH3 Si OCH3

OCH3

46

双悬臂剪切(DCB)测试黏附强度Gc

47

OLED 围边光固化密封胶
环氧:粘附性优异,是主要的密封胶材料; 传统环氧必须改性方能平衡各方面性能要求。(阻隔、柔韧、抗老化等)
固化后水蒸气 饱和吸收率% 1.85 5.19 0.42 0.35 0.65 0.87

环氧 E828 ERL4221 硅氧烷改性四官能脂环族环氧 硅烷改性四官能脂环族环氧 硅氧烷改性二官能脂环族环氧 硅氧烷改性二官能缩水甘油环氧

机械性能 脆硬 非常脆 略柔 略柔 柔软 柔软
48

A 硅氧烷改性四官能脂环族环氧 8g

B 8g

C 9

D -

E 828
环己烷二乙烯基醚 CHDVE 碘鎓盐 Rhodorsil 2074 四氟苯硼酸二芳基碘鎓盐 碘鎓盐 9380C(GE)(含ITX) 六氟磷酸十二烷基苯碘鎓盐 ITX


2g 0.1 g - 0.05 g


2g - 0.2 g -


1 - 0.2 -

10
- - 0.2 -

滑石粉
气相二氧化硅 膜厚 (微米) 水汽透过率 g· mil/100 in2· day 剪切强度(Kg) UV固化+70℃ 10min (粘结玻璃) UV固化+175℃ 1hr


- 75 21.9 - -

6.7 g
- 75 12.1 - -


0.1 - - 12.3 44.6


0.1 - - 22.9 33.7 49

提高密封胶阻隔性其他方法
? 光固化配方中掺入小粒径干燥剂 (如CaO); ? 采用自身憎水、机械性能、粘附性优秀的光固化环烯烃树脂/单体:

50

OLED 薄膜材料密封的必要性

51

薄膜阻隔效果试验
?板面聚合物薄膜密封处理(PET膜等薄膜阻隔性不够高)

钙盒试验,观察到金属钙的变化。

52

光固化技术制作阻隔膜
常规工艺: ?在塑料薄膜上交替形成镀铝层/聚合物涂层/镀铝层/聚合物涂层复合膜结构。

?或 真空镀无机膜/聚合物涂层/无机膜/聚合物涂层 复合膜结构,
无机膜-SiO2、Al2O3等。

聚合物涂层

光固化涂层
53

软OLED 薄膜封闭处理

54

有机/无机 交替多层阻隔膜
膜结构
有机/无机膜界面融合

阻隔效果

55

新的气体阻隔机理
有机/无机 杂化体系阻隔:

水分子在材料内部受到无机纳米片的阻挠,其穿 越材料本体的速率变慢,阻湿性能提高。

尼龙6 + 粘土(无机纳米片层结构)阻湿性

56

七、 光固化 与 PDLC
PDLC (polymer dispersed liquid crystal) 聚合物分散液晶 PDLC薄膜是一种具有光电响应的功能膜材料,液晶以微小液滴形式弥散地分 布到固体聚合物基材中,可以通过外加电压使分散膜实现透光-失透状态变 换。也可利用分散的液晶微滴作为微透镜,进行投影成像等操作。在光电显 示器件、光开关、非线性光学材料、选择透过性膜、热敏或压敏器件等方面 显示出较强应用前景,成为液晶材料领域中比较活跃的研究前沿。

57

PDLC应用机理
PDLC的基本特点是电控光散射,其结构为两块透明ITO玻璃中间夹入固体聚 合物作基材(10-30 μm),液晶微滴分布其中,每个液晶微滴有唯一的光学 主轴。不通电时,这些向列液晶微滴的光学主轴彼此取向随机分布,液晶微滴 对入射光的强烈多重散射,发生前光和背光的强烈散射而处于失透状态,表现 为乳白色状,即光窗处于关闭状态。通电时(典型为40-100 V),向列液晶 微滴光学主轴沿电场方向一致取向, PDLC从失透态到透明态, 光线可透过基 体而呈透明或半透明态,光窗处于开启状态。

58

光聚合生成PDLC
PDLC的制备方法有封装法和相分离法两大类,采用更多的是相分离法,大致 分为三种: ?热致诱导相分离法(TIPS); ?溶致诱导相分离法; ?聚合诱导相分离法(PIPS)。 其中研究较多的是光聚合诱导相分离法,将液晶分子分散于光固化单体和树脂 中,添加少量光引发剂,混合均匀,涂膜,UV辐照,发生光聚合。液晶分子在 液态光固化体系中有较好相容性,一旦发生光聚合,液晶分子将被迫析出,形 成一个个液晶微滴,并被迅速形成的聚合物交联网络包围,限制进一步流动迁 移,最终形成液晶微滴分散的光固化膜。

59

光固化PDLC 组成: 1)液晶:E 7 (ne=1.7462,no=1.5216) 2)光聚合物基体: 三羟甲基丙烷二烯丙基醚; 三羟甲基丙烷三硫醇; IPDI 二苯甲酮类光引发剂 (聚合物 np =1.524。需与液晶折射率no 匹配) 3)表面活性剂:油酸
O

液晶E 7:

O

OH

O O SH SH O O O SH O

60

PDLC-电控调光玻璃
?Mostly produced from America, Japan and Korea; ?Widely using in European and America;

?Stars in Hollywood, director, a merchant prince, international company etc. they use regulating light glass to decorate their nobleness construction;
?Disney park use regulating light film to reach at magic aim; ?Some top grade of cars like BMW use this products to make dormer; ?Villa, bank, hospital, insurance company, hotel, restaurant, museum, church, direction center etc they use it to make door, windows, sunshade and obstruct; ?Transparence screen in emporium is also made up of this product for attracting customers.
61

Thickness:
Driving voltage: Input power: Responding time:

0.4 ±0.05 mm
65-70V AC (virtual value, 50HZ) <1 mV.A / cm2 Turn on 2 ms turn off 20 ms

Parallel light permeation rate(collect angle 2°):
Visible light permeation rate: Working temperature: Environment temperature: Visual angle: Max. size of single piece: Life of continuous turn on: Guarantee time:

Turn on 70 ±2% turn off 1 ±0.2%
Turn on 76 ±2% turn off 65 ±2% -10℃~+50℃ -40℃~+90℃ 130° 2200 x 950 mm > 50000hr One year

62
Xinology Co. Ltd.

八、TFT-LCD : A High Growth Industry
8.1 LCD 概述

從1998到2007年, 產值成長八倍 ! US$ billions
55 45.3 50 35.5 45 40 28.5 22.4 35 16.8 13.4 14.7 30 25 20 6.5 15 10 5 1998 1999 2000 2001 0 20022003 資料來源: DisplaySearch, Q2/2003
2004 2005 2006 2007

52.9

55.8

TFT-LCD 產值

63

Taiwan TFT-LCD Timeline
notebook application only LCD monitor >1M sets
Japan started Korea entered Taiwan entered

LCD TV >1M sets

91
G1

92

93

94
G2

95

96
G3

97
G3.5

98

99

00
G4

01

02
G5

03

04
G6

Unipac

ADT
宏基

AUO
AU Optronics友达

Prime View

CPT奇美 CMO QDI广辉
HSD翰宇彩晶

Toppoly统宝
Innolux群创

mainly small/medium-size panels mainly large-size panels
64

Generation of TFT-LCD Fabs
? Mother Glass size, mean time to double = 4 years (G1 – G4), 1.5 years (> G4) Relative Glass Size in Each Generation
TFT LCD Generation Migration
10000.0

GX ~2200x~2400 G7 1870x2200
Glass Area (k-mmxmm)

G7
G6

G6 1500x1850 G5 1100x1250
1000.0

G4 680x880 G3 550x670 G3.5 600x720 G2 370x470
100.0 1990 1992 1994 1996 1998 2000 2002 2004 2006 Year

G5 G4 G3

1m x 1m

G1 300x400

G2

Source : AUO

65

Mother-Glass Size vs. Panel Size
G3.5 15” x 4 23” x 2

G4

15” x 6

30” x 2

G5

15” x 15

46” x 2

G6

15” x 30

66” x 2

Each generation allows production of larger size panels or more panels per substrate (increased efficiency).
66

TFT-LCD 成本构成

中国企业生产一台TFT-LCD,其75%的利润给了海外厂商。

67

8.3 LCD专用平板玻璃
LCD在两片玻璃基板间注入液晶,可能存在Na离子迁移的问题 TFT-LCD在制造过程中,如果侵入碱离子,就会破坏半导体功 能,因此只能使用无碱玻璃。因此,TFT-LCD制造一般都使用 低钠的无碱玻璃作基板。无碱玻璃以无碱硅酸铝玻璃(Alumino Silicate Glass,主成分为SiO2 、Al2O3 、B2O3及BaO等)为主,其 碱金属总含量在1%以下。领导厂商为美国康宁(Corning)公司, 以溢流熔融法制程生产为主。 TN-LCD、STN-LCD对玻璃基板的钠含量要求不如TFT-LCD苛 刻,可使用低碱玻璃、碱硼酸玻璃。主要生产厂商有日本板硝 子(NHT)、旭硝子(Asahi)及中央硝子(Central Glass)等,以 浮式法制程生产为主。由于钠石灰玻璃有SiO2 敷层,所以能够 获得与上述材料同等效果的性能因而主要使用的还是钠石灰玻 68 璃。

8.2 TFT-LCD 构造 和 原理 LCD Principle – 2 (Color)
彩色濾光片

玻璃基板

畫素 主動元素 (電晶體)

X電 極

Y電極

偏光板

69

70

71

72

LCD背光模组技术

73

LGP(Light Guide Panel) 具有引导从光源处发出的光的作用,是将线光源CCFL或点光源LED更换为面光源的 BLU的核心配件。 材料 : 透明丙烯酸树脂PMMA (polymethylmethacrylate) : 使用率最高 机械强度高,因此不会破碎或变形 体积轻,耐化学性强 透明,因此可视光线透射率高 导光板用PMMA的一般特征

74

光的开光原理

通电,液晶分子沿电场方向被强制取向,原因:液晶分子在两 个不同几何方向上具有两个不等的电偶极矩和介电常数。
75

TFT LCD Structure
Array 基板 驅動 IC 偏光板

Controller

Color Filter 彩色濾光片

PCB 基板 Inverter轉換器

Lamp 燈泡 Back Plate 背光板

76

TFT LCD Detailed Structure
间隔粒 保护膜 共通电极 配向膜 密封材料 配向膜 Gate电极 TCP 彩色滤光片 玻璃基板 偏光片 液晶

控制IC 印刷电 路板 偏光片

显示电极 扩散膜
导光板 线光源

驱动IC

TFT
Source电极

反射板 斜方晶 密封材料

77

Role of TFT in the TFT-LCD : Switch

Gate Charge

Pixel Electrode ITO

The TFTs in active-matrix LCD act as simple ON/OFF switches, at different speeds which depend on the refresh rate of the LCD, for example 60Hz.

Operation 1) Check if Gate Line voltage 2) TFT Turn-on 3) Check if signal voltage on pixel 4) Liquid Crystal Operation 5) Change of screen display
Capacity storage 78

TFT Pixel Structure

TFT
Pixel Array

显示电极 (选址电极)
SOURCE

GATE DRAIN

Pixel

?-Si
Insulator

TFT

Glass
79

Color Filter Structure
Color Resist

Spacer
ITO Film

R

G

B

R

G

B

Glass Substrate

Cr BM Film

Color Array Red Green Blue

ITO

Glass

Black Matrix

80

TFT LCD Process

TFT Array製作

Color Filter製作

LCD Panel 製作 SMT Structure
FPC/Heat Seal IC: SOP;QFP
LC D LC D

COG Structure LCD Module 製作
IC(Bump) FPC/Heat Seal

Frame PCB/PWB

ACF
81

TFT LCD Process - expand
Thin Film Deposit Process T F 5~7 Photo-lithography Process T Mask 製 程 Etch Process

Color Filter

C F 製 程

BM Deposit Photo Process Etch Process

RGB Coating
TFT Device Test Array Process
Alignment Layer Coat

R G RGB Patterning B RGB Developing

Cell Process

L C D 製 程

LC Alignment Process

Inspection

TFT/CF Alignment LC Filling Process

LCD Panel Test
Module Process (LCM)
82

Color Filter Process
Glass BM Red Green Blue ITO

Patterning A

Patterning B

Patterning B

Patterning B

Patterning A

Deposition & Patterning Process in Detail
C/F

Colored PR Coating
A B

Exposure

Develop

Inspection

B/M

Deposition
SPUTTER
Ar+ Al Al Al Al Al

Cleaning

PR Coating

Exposure

Develop

Etch Wet Etch

Strip

DC
Al Ar+

Dry Etch
Gas RF

TARGET SUBST
RATE
FO Si

PLASMA
Si

83

SiF4

Three Major Steps in the TFT-LCD Production Process

84

LCD Module Process-装配
Cell Cleaning Polarizer Attachment TAB Attachment Autoclave

PCB Attachment

B/L Assembly

Inspection

Aging

Inspection

Packaging

85

8. 4 UV固化与 LCD 制造

UV技术在LCD中的作为: ?Orientation film (可用光聚合生成) ?Color filter (BM, RGB, Spacer) ?透明微电极 (由玻璃上ITO膜光刻生成) ?AR膜、AG膜、MVA技术、prism sheet增亮膜、框胶
86

87

LCD Cell Process

C/F
Cleaning Rubbing LC Alignment Treating Seal Printing

Alignment-Layer Printing

Spacer Dispensing

TFT

3

Assembly

Scribing & Breaking

LC Injection

Autoprobe Inspection

88

8.4.1 TFT 制造
A simple Thin-Film-Transistor (TFT) structure

89

TFT Process
Glass GATE Electrode Insulator & ?-Si DATA Electrode

Passivation

Pixel Electrode

Patterning

Patterning

Patterning

Patterning

Patterning

Deposition & Patterning Process in Detail

Deposition
PECVD
RF

Cleaning

PR Coating

Exposure

Develop

Etch
Wet Etch

PR Strip

Inspection

H H H Si H

H

Si N Si NSi N

H H

N

H H

H

SPUTTER
Ar+ Al Al Al Al Al

Dry Etch
Gas RF

DC
Al Ar+

FO Si Si
SiF4

PLASMA

TARGET

SUBSTRAT E

90

plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)

Steps in the process:
Gate Semiconductor Data Protective layer ITO

91

92

PECVD (Plasma enhanced CVD, 等离子增强CVD) 為了使化學反應能在較低的溫度下 進行,利用了等離子體的活性來促 進反應,因而這種CVD稱為等離 子體增強化學氣相沉積(PECVD). 優點:基本溫度低;沉積速率快; 成膜品質好,針孔少,不易龜裂

Layers of SiO2 and SiNx are deposited by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD). The component elements of the film to be deposited are introduced into the reaction chamber via gaseous precursor reactants (SiH4, NH3, N2O etc.). In this process, radio frequency (RF) is used to induce plasma in the deposition gas. This results in a higher deposition rate at relatively low temperatures. Step coverage is good. 93

ACF (anisotropic conductive film 异方性导电膜) – 连接器件
ACF is an epoxy system used by electronics industry to make electrical and mechanical connections from drive electronics to substrates.
ACF的组成主要包含导电粒子及绝缘胶材两部分,上下各有一层保护膜来保护主成 分。使用时先将上膜(Cover Film)撕去,将ACF胶膜贴附至Substrate的电极上,再 把另一层PET底膜(Base Film)也撕掉。在精准对位后将上方物件与下方板材压合, 经加热及加压一段时间后使绝缘胶材固化,最后形成垂直导通、横向绝缘的稳定结 构。 ACF主要应用在无法透过高温铅锡焊接的制程,如FPC、Plastic Card及LCD等 之线路连接,

94

95

Conductives particles (each 3~30um)

Dispersity(CV) : < 3% Diameter(?) : 2.5~10 Core materials : Polystyrene, Acryl, etc.

Metallic materials: Nickel, Gold, Copper

TAB是Tape Automatic Bonding的缩写,是为了实装驱动IC,利用TCP Film和 ACF(Anisotropic Conductive Film,异方性导电Film),和Panel Pad 连接的 96 方式。

Application Pitch Size

STN-LCD 100um

TFT-LCD 50um

PCB/PWB 100um

PDP 150um Avg 5um Ni/Au 190 ℃,10sec, 3MPa 180 ℃, 7sec

Particle Size /Type

10um Polymer ball
180 ℃,10sec, 2.5MPa

3,4,5um Polymer ball
180 ℃,10sec, 2.5MPa

Avg 1um Ni ball Avg 5um Ni/Au
180 ℃,15sec, 3MPa 160℃,8sec, 3MPa 160 ℃, 7sec

Bonding condition

Target

Low Temp, Fast cure = 180 ℃, 5sec

Application Pitch Size Particle Size /Type

COG 10um 3,4,5um Polymer ball

COF 10um 3,4,5um Polymer ball

Camera Module 100um 10,20,30um Polymer ball

Touch Panel >500um

5um (Metal ball) 20um (Polymer ball)
-

Min Bump/Min captured particle Bonding condition Target

1600um2/5ea

1600um2/5ea

-/40ea

180°C,5sec, 60MPa

180°C,10sec, 3MPa

180°C,10sec, 150°C,15sec, 1.5MPa 2MPa
140°C, 15sec 97

Fine Pitch Application(12um under) 180°C, 7sec

8.4.2 液晶定向层原理
定向层(photo-alignment layer)液晶定向技术是LCD制造的关键技术 之一,其原理是采用表面具有很多细微定向沟槽的聚酰亚胺膜,使接触液 晶按超扭曲向列型(STN) 、薄膜晶体型(TFT) 和铁电型液晶等模式的显示。

98

LCD 液晶定向层的制作
? 旧的摩擦工艺:LCD定向层目前多采用机械摩擦聚酰亚胺的方法,产生 细微定向沟槽。但这种摩擦聚合物表面的定向工艺会产生灰尘和静电, 造成LCD 的缺陷,影响显示效果,使LCD良品率降低。

新型、可靠、快速的定向层制作技术?

99

LCD 液晶定向层的制作 ? 线偏振紫外光固化:1992 年报道了聚乙烯醇肉桂酸酯在线性 偏振紫外光(LPUV) 的辐照下,光敏树脂按一定方向生成交联 聚合物,形成定向沟槽形貌,使液晶分子定向排列,开创了线 性偏振光聚合技术(LPP) 。有望克服摩擦法的主要缺点,而且 使器件的制作更加简单、方便,良品率有望提高。

? LPP原理:接枝肉桂酸酯基在LPUV辐照下, 主要发生在平行于 偏振光偏振矢量的方向上发生聚合交联([2+2]环加成反应), 垂直方向上聚合几率较低,偏振光交联的结果使固化膜出现各 向异性。

100

合适的光敏聚合物
? 很多聚合物材料被尝试: ? 侧链接枝肉桂酸酯的聚酰亚胺:良好的成膜性、耐热性和 透明性 ; ? 接枝有肉桂酸酯基团的梯形倍半硅氧烷 :更好的热稳定性 和结构易于控制的特点 ? 苯乙烯基吡咯烷酮基

? 苯乙烯基吡啶基
? 二苯基乙炔基团化合物等。

? 较为常见的主链树脂包括PVA、聚丙烯酸酯、聚硅氧烷等。
101

LPP制备LCD定向层实例
? LCP polymer Staralign 2110MEK (肉桂酸酯化PVA + 光引 发剂) ? Barrier Layer:六甲氧基蜜胺溶液涂覆于醋酸纤维片上, PTSA催化,加热交联固化;

? LPP层: LCP polymer Staralign 2110MEK (肉桂酸酯化 PVA + 光引发剂) 涂覆于上述蜜胺固化底涂上;
? 入射LPUVB按20度顷角辐照涂层,形成定向沟槽。 ? 双丙烯酸酯向列型液晶 CB483(MEK) 溶液涂覆于定向层之 上,UVA光源辐照固化,定向固化液晶打底。 关键:定向沟槽的稳定性(抗自修复) 102

8.4.3 滤色膜(color filter,彩色光阻)加工
滤色膜制作占到 TFT-LCD 成本的 15 %以上;
滤色膜中黑色框阵、RGB三色区块均可用丝印光固化 或 光刻方式制作。

103

Structure of color filter film
?分步制作滤色膜 ?先BM,后色膜

BM:black matrix主要是用来遮住不打算透光的部分. 比如像是一些ITO的走 线, 或是Cr/Al的走线, 或者是TFT的部分。 滤色膜制程:红色 ? 绿色 ? 蓝色 滤光微区
104

彩色濾光片濕式製作流程
Cr Film Sputtering

◆ 顏料分散法 ◆ CF利用狹縫式塗佈

BM patterning Process

Spin or spinless coating

BM Process

法塗佈彩色光阻液
◆ 預烤 ◆ 曝光
UV light photomask

Resist Coating

Prebaking UV Exposure

3 time (R,G,B)

◆ 顯影
◆ 後烤

Development

◆ 最後加上ITO鍍膜
Postbaking

ITO Process

Spacer Process

105

黑色矩阵制作-光刻工艺
旧BM:刻蚀Cr膜
新BM:黑墨刻蚀

106

彩色点阵制作-分步光刻工艺

红?绿? 蓝色块制作

107

黑色墨组成

? 黑 色 点 阵 墨 (Black matrix):

108

色墨组成
Blue pixel ink

SR-399
Irgacure 1850 Irganox 1035 Quantacure CPTX SR-499 Sarbox 500 E50 BYK 161 (30%) less volatiles Lionel Blue ES

60.8
1 2.3 0.3 15.2 5.4 3.5 11.5

Red pixel ink SB520 E35 Irganox 1035 Irgacure 1850 Quantacure CPTX SR-802 SR-399 SR-454

7.9 2.1 1.9 0.6 5 16 20

Dispersed BYK 161 8 (30% in SR-399) Irgazin Red A2BN 13 Paliotol Yellow D1819 5

Green pixel ink SR-499 Irganox 1035 Irgacure 369 Quantacure CPTX SR-399 Sarbox 500 E50 BYK 161 (30%) less volatiles Heliogen Green L9361 Paliotol Yellow D1819

13.7 2.15 2.15 0.7 45.1 14 3.5
15.2 3.5

Sarbox 500 E50: 含羧基丙烯酸酯单体
109

8.4.4 光刻制作 微电极
制作LCD的玻璃板上预镀SiO2膜,再镀导电ITO膜,将盖ITO膜在光致抗 蚀剂协助下,可刻蚀出大小与彩色滤光膜色块相当的微电极,用于控制单 元色块信号。

ITO 膜 ICP刻蚀结果:

表面电阻: 12 ?/cm2, ITO膜厚度: 150nm

110

8.4.5 LCD 减反增透膜
反射-刺眼,影响视屏效果;降低了透过介质器件的光强,光衰减。 相机(PC/DC/DV/NetCam):进入到成像元件上的光大大减弱,成像模糊; LCD : 多层光学薄膜,多重反射衰减(还有CF滤光),最终图像黯淡。 每发生一次反射,衰减~4%; 经过6个棱镜,光强衰减50%。
Cannon DC EF-S17 透镜组

相机镜头、LCD、PDP、OLED、LED等成像或视屏系统涉及光线穿越薄膜、 玻璃界面,将发生光反射和光折射。

擴散片(diffuser) 導光板(LGP) 反射片(reflector) 111

成像系统中的透镜组合是必要的

112

降低界面上的光反射率、增加透光率
Anti-reflection (AR) 目的:降低反光刺眼副作用;提高光通量。

哑光面可否 ? No way! Why ?

How ?

薄膜或涂层要求: 低折光率; 厚度为入射光波长1/4的奇数倍。
113 膜厚度不可变,只能产生单波长减反。

多层膜减反
全谱减反膜特征: 低折光 高折光

低折光

114

AR 膜与LCD
AR/TAC/PVA-P/TAC/Adhesive/Release

115

Property of AR film
Test Item Coating tickness Unit nm Specification 95± 5 Results 97.44 Apparatus ETA

Film thickness
Film width Total light Transmittance Haze Adhesion Pencil Hardness 5? Reflectance

?
mm % % %

100
1100 ≥90 ≤2% 100/100 ≥2h ≤1.0

100
1100 95.61 1.61 ok 3h 0.88

Tickness Gauge
JIS K-7105 JIS K-7105 JIS K-5600 JIS K-5600 HITACHI U-4100 (400-700nm)

116

增透机理
界面反射率:

( n 2 ? n1 ) 2 R? ?100% 2 ( n 2 ? n1 )

两种介质折光率相差越小,反射损失越小。 与空气接触的介质,一般要求折光率尽可能低;

与高折光率的光学玻璃接触的介质,要求折光率高。
117

减反增透膜形成
传统:采用气相沉积法在基材上形成一定厚度、一定折光率的光学膜,可多 层分段加工。 费时、成本高,无机膜硬而脆。但工艺过程容易控制。
TYPICAL THIN FILM PRODUCTION REFLECTION (BBAR) COATING: SEQUENCE FOR A BROADBAND ANTI-

Step 1) Prepare tooling to mount optics in chamber. Step 2) Clean optics and load them into tooling. Step 3) Clean chamber and refill with source material needed to produce coating evaporates. Prepare monitoring system. Step 4) Load tooling containing optical components into chamber. Step 5) Reduce chamber pressure to <2?10-5 Torr and heat chamber to 200 - 300℃. Step 6) Deposit coating layers as per coating design. Step 7) Cool and vent coating chamber. Step 8) Remove optics from chamber and test optics for coating performance. Step 9) Inspect and wrap optics. Total Cycle time for BBAR is over 3 hrs not including cleaning and inspection. Note that all steps must be completed regardless of the number of optics being coated. For this reason, low-volume coating runs have a higher per-unit cost.

118

119

常见低折光率有机材料
光固化减反增透膜: 高效率、低成本,易大量生产。但膜厚不易控制。 低折光率光固化材料一般为含氟单体或树脂:
PC 1.586 PMMA 1.49 PDMS 1.37-1.4

PES 1.54

120

光固化低折光率单体

121

光交联的低折光率材料

122

高折光的光固化材料 - 1
O CH 2 CH C S S O C C H CH 2

1.648

Se O CH 2 CH C S Se S O H 2C C H C S Se S O H 2C C CH 3 O S H 2C C H C S Se S C C H CH2 O C S Se CH3 S O C C CH 2 S O C C H CH 2 S O C C H CH 2

1.634

1.67

1.65

1.69
123

高折光的光固化材料 -2
O Se H 2C C H C S Se O S H 2C C H C Se Se O CH 2 CH C Se Se O CH 2 CH C O O O C C H CH 2 Se O C C H CH 2 Se C C H CH2 O S C C H CH 2 O

1.71

1.73

1.69

1.60

Se

124

高折光的光固化材料 - 3
O S H 2C C H C S Se O H 2C CH C OCH 2CH 2O
n

O S C C H CH 2

0.21 mol O

OCH 2CH2O
m

1.65
C H O CH 2 0.04 mol

C

O H2 C C CH 3 C OCH 2CH 2OCH 2CH 2 O

C

C CH 3

CH 2

0.04 mol

O CH 2 CH C S CH2 CH 2 Se CH 2CH 2 S

O C C H CH 2

1.66

N S O

N

1.63
S S O
125

高折光聚合物-芳环、氯、溴取代

Polymer

n700nm
2.28 3.90

n1064nm
2.47
2.04 3.04

n2500nm
2.44
1.95 2.77
PA

trans-PA
PPV PT

n

n

PPV
S S

PT
n

126

高折光的光交联材料-4

127

有机/无机杂化的高折光材料
?有机材料要提高折光率比较困难; ?可以利用一些本身折光率较高的金属氧化物/硫化物,以纳米粒子形 式与光固化材料杂化,形成光固化有机/无机杂化高折光材料。

?无机粒子以纳米形式分散于光固化膜内,不会影响薄膜透光性;
?TiO2、ZrO2、ZnS等。
OBu BuO Ti OBu OBu H2 O/hydrolysis H
+

OBu BuO Ti OH OBu

OBu condensation H
+

OBu O Ti OBu OBu

BuO Ti OBu

Titanium dioxide

triarysulfonium salt
O O C CH CH2

UV irradiation

R Free radical polymerization

Organic network

Dual effect of triarylsulfonium salt for TBT hydrolysis and acrylates polymerization
128

涂膜后立即光固化

涂膜后曝潮5min,再光固化

涂膜后曝潮15min,再光固化

涂膜后曝潮30min,再光固化
129

130

TAC膜上减反增透
锐钛型纳米TiO2(外包覆 10 p Al2O3层钝化) PETA Disperbyk 163(分散剂) 4p 2p

于80?m厚TAC膜上涂覆3?m厚,预烘除溶剂, 辐照固化,干膜厚0.1?m,RI 1.83

Irgacure 184
MIBK

0.2 p
37.3 p

高折光层组成: 锐钛型纳米TiO2(ZrO2、硬脂酸包覆) 100p PETA 40 p 分散剂(EO,阴离子) 20 p MIBK 900 p 【锆珠碾磨分散】 Irgacure 184 3 p DPPA 40 p MIBK 8900 p ( 2% 固含)

1. (PETA + 光引发剂) 于TAC膜上形 成高交联硬膜; 2. 涂覆高折光率层,烘干溶剂,UV固 化,膜厚900nm,RI 1.76; 3. 涂 覆 低 折 光 层 , UV 固 化 , 厚 度 900nm,RI 1.42 反光率 0.4%,硬度 2H
131

8.4.6 Gap Spacer for LCD cell

1) Plastic microbeads: composed of a divinylbenzene material that is designed to be compressed between two substrates; 2) Silica microbeads: a much harder material that is capable of providing tighter particle size distribution; 3) UV-curable polymer spacer: Photo Spacer for Thin Cell Technology

132

Gap spacer: 在 LCD Panel 液晶盒中用来维持二片 ITO 玻璃的固定距离,控制 液晶厚度。 传统间隔材料--交联聚合物微球,粒径均匀。 缺陷:1)微球粉喷洒涂布,难以均匀分布,膜组件平坦性?,降低画质; 2)间隔微球在液晶池内可滑动,机械损伤配向膜; 3)微球漏光,降低画面对比度。
光固化型间隔柱 Photo Spacer: 光刻胶?ITO基板均匀涂布? mask exposure ? development ? microparticles sticking on glass ? Hard baking Photo 1. 2. 3. 4. 5. Spacer具备特性: 适当机械强度; 不会对液晶造成污染; Spacer高度的均一性; 良好的附着性; 良好的耐热性 Spacer光刻胶主体树脂: 改性酚醛树脂、聚丙烯酸酯树脂 良好透光性 光反应性(酸反应、自由基聚合反应) 较低介电常数
133

Formulation for Photo spacer
1) 碱溶性树脂 2) 混合溶剂

3) 高官能度丙烯酸酯单体
4) 光引发剂(光产自由基,且有利于显影后硬烤) 5) 颜料(碳黑)

6) 助剂

134

8.4.7 Diffusion film

该膜具有扩散性,能使背光源的亮度达到

均匀。另外,控制来自于导光板的光的角
度,并且根据与背光源组的结构,将2、3 张扩散膜重叠使用,就会得到更高的正面 亮度效果。
135

扩散膜结构

高雾度、高透光率

光散射板制造工艺一般是将具有光散射 功能的微球作为光散射剂喷涂在薄膜上, UV固化黏着。 光散射微球材料: PMMA、PS,

PC-热稳定性要求高的场合。

若干不同粒径聚合物光学微球分布于PET基片上,UV固化粘合。
136

扩散膜表面SEM照片

微球折光率问题? 核与壳的折光率不同: 外大内小 外小内大 综合考虑微球界面反射
137

扩散层制造与光固化技术的相关性:
1)聚合物光学微球分散于光固化粘结剂中,涂布,固化; 2)光引发分散聚合制备粒径非常均匀的聚合物光学微球。

光引发分散聚合获得的PMMA微球

138

8.4.8 Retardation film
相位差板是提高液晶面板视角的部件,TN,STN,LCD-TV

线椭圆偏振光,通过相位差膜,将其在几乎没有光损失的前提下,再次转变 为线偏振光。

139

相位差材料在x、y轴两方向 上对入射光折光率不同,双 折射。

可涂布的相位差材料

140

反应型液晶分子原位光固化,获得相位差膜层。

141

8.4.9 Prism sheet(棱镜膜、集光片)
In BLU

集光片是利用类似三棱镜原理,将原本散乱的光线集中至约70度角 的范围,增加光线的利用率 ,提高光通量,增强显示屏亮度。

142

集光片电镜照片

重複反射-大約50%的入射光 會被反射回去而重新再利用

70°

折射-可利用的折射光增 加40%-70%

再反射/再折射 低比例損失

TIR

BEF

Diffusely recycled 擴散片

143

微米压印光固化技术制造棱镜膜光栅立体图形

144

九、 UV导电涂料与抗静电涂料
通常在光固化配方种加入足够量的导电颜填料或金属粉:
?导电碳黑; ?掺锑氧化锡;
美国材料与试验协会标准ASTM F150-98: 2.5X104~1.0X106 欧姆--导电涂层;

?银粉;
?导电镍粉(特定形态); ?石墨;

1.0X106~1.0X109 欧姆--静电耗散性涂层。

?表面镀银玻璃粉、铜粉等;
?表面镀二氧化钛; ?聚苯胺、聚乙炔、聚噻酚等

145

UV固化抗静电涂料
抗静电剂: ? 季铵盐型,本身有一定电导,涂层吸潮,消除静电积累; 3-甲基丙烯酰氧丙基三甲基氯化铵(MAPTAC) 甲基丙烯酰氧乙基三甲基铵硫酸单甲酯盐(Ageflex FMIQ80DMS) 丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(Ageflex FA1Q80MC) 甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(Ageflex FMIQ75MC) 丙烯酰氧乙基三甲基铵硫酸单甲酯盐(Ageflex FA1Q80DMS) 丙烯酰氧乙基二乙基甲基铵硫酸单甲酯盐(Ageflex FA2Q80DMS) 二甲基二烯丙基氯化铵(Ageflex DMDAC) …
? 金属 或 金属氧化物 填充(氧化锡、氧化锌、四针状氧化锌等); ? 碱金属盐 以Li、Na的复杂阴离子盐为主,如LiCF3SO3、LiBF4、NaBF4等。 ? 导电聚合物等
146

含季铵盐抗静电UV涂料
O CH 3CH2CH 2CH 2CH 2CH O CH 3 CH 2CHCH 2CH 2 O O CH 3 N H CH 3 CH 3 C CH 2

(C
O

)nC

CH2 CH 3

HO

( (CH )

2 5

C O

O

)n CH CH O
2 2

O C CH 3 CH 2 H 2C C CH 3 C O

CH 3 CH 2CH2N CH 3 CH 3 Cl?

C

含共聚型季铵盐抗静电剂的光固化涂料配方

组分 MAPTAC 50%水溶液 HEA PETA Dowanol PM EB 350 Darocur 1173

属性 季铵盐抗静电剂 单官能度单体,增加固化膜柔性 高交联成膜组分 丙二醇单甲醚溶剂 丙烯酸酯化聚醚改性硅酮树脂 光引发剂 漆膜表面电阻率仅为1.5~2.0×106?

用量 6.0 5.0 2.0 4.0 1.0 0.6
147

含碱金属盐抗静电UV涂料
碱金属盐对电子束固化涂料的降电阻效果比较 PEG400双 丙烯酸酯(%) 26.25 双季戊四醇 五丙烯酸酯(%) 70 碱金属盐(%) LiBF4 3.75 表面电阻率 W 5.62×1011

43.75
61.25 17.32 29.70 41.25 57.75 45.0

50
30 79 64 50 30 50

LiBF4
LiBF4

6.25
8.75

1.51×1010
8.51×108 3.77×1012 1.95×1011 4.86×1010 1.13×109 5.62×1011

LiCF3SO3 3.68 LiCF3SO3 6.30 LiCF3SO3 8.85 LiCF3SO3 12.25 NaBF4 5.0

67.5

25

NaBF4

7.5

7.94×109
148

含导电聚苯胺抗静电UV涂料

导电聚苯胺以十二烷基苯磺酸掺杂,PET基材上光固化膜的表面电阻率随导电 聚苯胺微凝胶含量增加而下降,35%的用量可使表面电阻率降至107~108?, 加入少量助溶剂间甲苯酚或N-甲基吡咯烷酮可大幅降低导电聚苯胺微凝胶用 量

含聚苯胺导电光固化涂料
组分 EB 1290 TMPTA HDDA Irgacure1870 Irgacure184 属性 多官能度丙烯酸酯 三羟甲基丙烷三丙烯酸酯 1,6-己二醇双丙烯酸酯 光引发剂 光引发剂 用量 50 25 19 3 3

导电聚苯胺微凝胶(17.8%固含) 导电材料

100 149

十、 Microlens in CCD/Digital Camera
CCD (charge coupled device,电子耦合组件 ) – the heart of the digital camera
CMOS (Complimentary Metal Oxide Semiconductor,互补 金属氧化物半导体 ) CCD, CMOS - 数码相机的两种核心感受器件(sensor)

? CMOS sensor DC相对较少; ? CCD sensor DC 较多

150

CMOS 制作
? 类似于晶园加工制作IC,采用精密光刻工艺:

比较成熟的晶园光刻工艺
151

CCD 构造 组件:微滤色膜、光电二极管、微透镜。

152

CCD 工作原理
来自物体的光线穿过这些马赛克色块会让感光点的二氧化矽材料释放出电子 〈负电〉与电洞〈正电〉。经由外部加入电压,这些电子和电洞会被转移到不 同极性的另一个矽层暂存起来。电子数的多寡和曝光过程光点所接收的光量成 正比。在一个影像最明亮的部位,可能有超过10万个电子被积存起来。

153

Is there any chance in CCD for UV-curing?
? Micro color filter ? Micro-lens ? Photo-shield film

微透镜:一种简单的光子晶体。

154

微透镜列阵大幅提高光效率

用 低 分 辨 photomask 获 得高分辨成像图案
155

? 果蝇眼睛电镜图-天然的微透镜列阵

156

微透镜阵列的典型制作方法

直接光交联聚合法制作微透镜阵列

一般光刻胶的透过性和耐磨 性较差,不能直接作为微透 镜使用,因此还需要经过离 子蚀刻,将光刻胶上的微透

用514.5nm的氩离子激光束对光敏性液层 辐照,感光部位固化形成圆柱状聚合物,辐 照部位由于体积收缩所产生的凹坑很快被光 敏液体流淌填平然后继续固化,因此该步骤 最终不会形成凹坑。最后在UV辐照下整体 曝光,前一工序未固化的部位发生光聚合而 体积收缩,平面下降。而原来已经在氩离子 激光下固化的圆柱区域不再发生收缩,从而 突出形成凸面,最后得到微透镜阵列。157

Sol-gel 梯度掩膜光固化 grayscale photomask

Sol-gel glasses may be formed, for example, by hydrolysis of tetraethylorthosilicate (TEOS) and/or tetramethylorthosilicate (TMOS). After hydrolysis, these materials may be subjected to oxolation or oxygen bridge formation and polycondensation. The result is a silicon is oxide complex which is solvent swollen to form a polymerized network.
158

十一、E-paper 电子纸

Do we really need electronic paper?

159

“使用柔性材料制造,只需要非常低的能量消耗、制造成本低廉、最重要的 是人们能够简单方便的进行阅读!” “使用柔性材料制造,只需要非常低 的能量消耗、制造成本低廉、最重要的是人们能够简单方便的进行阅读!” “在未来十年内,电子纸张配合存储芯片能够装下整个图书馆,电子纸张介 质也将让绝大多数印刷报刊成为历史”。

电子纸张自身并不发光,它是通过反射环境光到读者眼中达到显示目的的, 由于这一显示原理和传统印刷品几乎相同,人的视觉感知结果如纸张印刷品 类似,所以“E-paper”称呼这种技术是名至实归了。

这位先生在正专心阅读,他手中的 “电子书本”完全符合传统书籍的 阅读方式

160

E-paper 类型和原理
旋转球方式(Gyricon) 该技术是美国Xerox公司和3M公司共同研究开发的,基本原理是:以每半个球分别 涂成白与黑的球形微粒子,通过电场控制其方向,由白和黑两种颜色显示出图像。用 硅树脂作为粘合剂将双色粒子涂在基片上,在粒子的周围形成空穴,以特定的液体充 电,粒子表面的白侧为负,黑侧为正,在两色之间呈现出不同的电荷而形成偶极子。 若以负电荷图像加在这张纸板的表面,粒子便会旋转,使黑半球朝上,如果以正电荷 加在纸板表面,白半球便朝上,因而可以显示图像。

最早的一张基于Gyricon电 子纸产生的图案 ,实现的 方法是在Gyricon面板后放 臵X形状的电极,施加一个 电压后图形X就形成了。 161

电泳显示类
EInk公司开发的电泳电子墨水,电泳电子墨水内包含数百万的微胶囊,每个微胶囊 的直径大概在100微米左右,和我们成人头发截面直径相当。每一个微胶囊中主要成分 透明液体,其中承载着大量的白色带负电的颗粒和黑色带正电的颗粒。当向电泳“前 面板”施加负电场后,所有的白色微粒移动到微胶囊顶部,这时呈现给读者的就是一 个白色的点,而黑色的微粒全部沉到了微胶囊的底部,在阅读者眼中就消失了。当施 加正电场、黑色的微粒会移动到顶部,白色微粒沉底,就形成了黑色的文字或者图像。

白球带负电,黑球带正电,当加电场时,就会使白球向正极移动,黑球向负极移动,当然那个大球里是 有液体的,白球和黑球才会在液体中泳动。其实在不加电场的情况下,黑白球是无序不取向的,这样我 162 们肉眼看到的就是灰色的。一个微胶囊的直径大约在50-100微米左右。

Electrowetting(电润湿法)显示技术
在过去十年中飞利浦一直致力于研发electrowetting(电润湿法)显示技术 。
Electrowetting技术简单的说就是借助控制电压来控制被包围的液体的表层,从而导致 像素的变化。当没有施加电压时,有颜色的液体与不透水且绝缘的电极外层间,形成 一层扁平薄膜,就是一个有色的像素点。当在电极与液体之间施加电压时,液体与电 极外层接触面的张力会产生改变,结果是其原来的静止况态不再稳定,令液体移至旁 边,造成一个部份透明的像素点;如果在可转换“电子纸”显示器的基础。用 electrowetting技术制造的显示器有若干非常吸引人的特色:白色和有色的像素转换非 常快速,足以展示动态影像内容;它不需要背光非常省电;它没有玻璃基板何以任意 弯折;最重要的是它的亮度和对比度与现有显示技术相比,有过之而无不及。

163

胆甾液晶显示器 Cholesteric Liquid Crystal Displays,ChLCD
胆甾醇液晶在无电场时呈现平行取向,适应液晶的螺旋间距来选择色光进行反
胆甾醇液晶将会又返回到平行取向。利用这个电场的变化,就可以控制显示和

射。在弱电场时,呈现焦圆锥取向,透光以维持其状态。如果从外部加强电压,

非显示。欲对媒体写入,只需将有机光导电膜层合,以控制液体层的分压。

164

胆固醇液晶的双稳态特征
无电压时,胆固醇液晶分子在 两块基板间呈平面织态 Planar cholesteric texture
反 射 特 定 波 长 的 光

有色像素 ? 黑色像素
外加持续电压,ChLC呈垂直排列状态 Homeotropic cholesteric texture 透 光

正电压 反电压
透 光 , 状 态 稳 定

外加脉冲电压,ChLC呈焦锥形态 Focal-conic cholesteric texture
透 光 , 状 态 不 稳 定

光聚合快速形成疏松交联网 络,稳定焦锥态ChLC

165

Stacking
Rather than having the pixel colors side-by-side, some companies have stacked the color layers on top of each other. This means the color effect is less spread out, giving a clearer image when viewed straight on, although the colors can shift at an angle. The display is also thicker. Fujitsu Frontech's e-paper display, developed jointly with Fujitsu Laboratories, consists of three layers on a flexible substrate. The layers contain cholesteric LCD (ChLCD) material colored red, green and blue, avoiding the need for separate filters.

166

A colorful illustration of the way ChLCD technology works 入射光线包括阳光或者荧光灯光线、最底层为 光吸收层,从下至上分别为RGB反射层

Recall the Bragg reflection condition, in which the wavelength of reflected light is given as

ChLCDQ驱动电子纸张结构,配合滤光片可实现真彩色

where n is the average refractive index of the LC material. The value of p may be preselected by the choice of materials. Furthermore, only light that is circularly polarised in the same sense as the twisting helix is reflected, light polarised in the opposite sense being transmitted.

167

十二、头罩显示器(HMD,Head Mounted Display)
原理是将小型2维显示器所产生的影像藉由光学系统放大。具体而言,小型显
示器所发射的光线经过凸状Lens使影像因折射产生类似远方效果。利用此效 果将近处物体放大至远处观赏而达到所谓的全像视觉(Hologram)。

视频眼镜 、眼镜显示器、glass dispaly

168

169

VR Price: $1395.00

小型液晶显示器(LCD,Liquid Crystal Display)的影像通 过一个偏心自由曲面Lens,使影像变成类似大银幕画面。

光学塑料 高折光率,高通透性

170

3D vision

171

Eye-tracking Integrated HMDs眼镜追踪整合HDM

172

十三、触控面板(触摸屏Touch Panel,TP)
可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装臵,当接触了屏幕上的图形按钮 时,屏幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动各种连结装臵,可用 以取代机械式的按钮面板,并借由液晶显示画面制造出生动的影音效果。

173

分类:
按照触摸屏的工作原理和传输信息介质不同,触摸屏分为四种: 红外线式、表面声波式、电阻式、电容感应式 红外线式触摸屏:
红外触摸屏是利用X、Y方向上密布的红外线矩阵来检测并定位用户的 触摸。红外触摸屏在显示器的前面安装一个电路板外框,电路板在屏幕四边 排布红外发射管和红外接收管,一一对应形成横竖交叉的红外线矩阵。用户 在触摸屏幕时,手指就会挡住经过该位臵的横竖两条红外线,因而可以判断 出触摸点在屏幕的位臵。任何触摸物体都可改变触点上的红外线而实现触摸 屏操作。

174

了解触摸屏技术的人都知道,红外触摸屏不受电流、电压和静 电干扰,适宜恶劣的环境条件,红外线技术是触摸屏产品最终 的发展趋势。红外线触摸屏只要真正实现了高稳定性能和高分 辨率,必将替代其它技术产品而成为触摸屏市场主流。
175

FTIR多点触摸原理 (Frustrated Total Internal Reflection受抑全内反射)

红外LED(IR LED)发射红外线进入亚克力板,当亚克力面板的厚度大于 8mm时,光线会发生在亚克力内不停反射,而不会跑出来,这就叫做全内反 射,但当你的手指(或者其他材质如硅胶等有一定韧性和反射性的材料)碰 到亚克力表面时,全内反射被破坏,光线被手指反射出来,此时,亚克力下 方正好有红外摄像头(IR Camera)捕捉到手指反射的亮点,摄像头捕捉到的 亮点会送到计算机进行处理,形成输入,有几个亮点,就形成几个输入点。
176

表面声波式触摸屏:
表面声波触摸屏(Surface Acoustic Wave)的触摸屏部分可以是一块平面、 球面或是柱面的玻璃平板,安装在CRT、LED、LCD或是等离子显示器屏幕 的前面。这块玻璃平板只是一块纯粹的强化玻璃,区别于别类触摸屏技术是 没有任何贴膜和覆盖层。 玻璃屏的左上角和右下角各固定了竖直和水平方向的超声波发射换能器, 右上角则固定了两个相应的超声波接收换能器。玻璃屏的四个周边则刻有 45°角由疏到密间隔非常精密的反射条纹。
以右下角的X轴发射换能器为例:发射换能 器把控制器通过触摸屏电缆送来的电信号转 化为声波能量向左方表面传递,然后由玻璃 板下边的一组精密反射条纹把声波能量反射 成向上的均匀面传递,声波能量经过屏体表 面,再由上边的反射条纹反射成向右的声波 传播给X轴的接收换能器,接收换能器将返 回的表面声波能量变为电信号。
177

当发射换能器发射一个窄脉冲后,声波能量 历经不同途径到达接收换能器,走最右边的 最早到达,走最左边的最晚到达,早到达的 和晚到达的这些声波能量叠加成一个较宽的 波形信号,因此这个波形信号的时间轴反映 各原始波形叠加前的位臵,也就是X轴坐标。

表面声波触摸屏在没有触摸时示波器 下的波型状态:

当手指或其它能够吸收或阻挡声波能量的物体触摸屏幕时,X轴途经手指部 位向上走的声波能量被部分吸收,反应在接收波形上即某一时刻位臵上波型 有一个衰减缺口,继而由控制器计算得知X坐标。 表面声波触摸屏难于维护:灰尘,油污甚至饮料沾污在屏的表面,都会阻塞 触摸屏表面的导波槽,使波不能正常发射,或使波形改变而控制器无法正常 识别,影响触摸屏的正常使用。必须经常擦抹屏的表面以保持屏面的光洁。 178

电阻式触摸屏:
电阻式触控萤幕可以说是目前使用量最多的一个技术,电阻式的驱动原理是 用电压降的方式来找座标轴,由下图可以看出,X轴和Y轴各由一对0?5V的 电压来驱动,当电阻式触控萤幕被Touch到的时候,由于回路被导通,而会产 生电压降,而控制器则会算出电压降所佔的比例然后更进一步算出座标轴。 从电阻式的结构面来讲 ,通常电阻式上层是以ITO Coating的PET来当材料, 下层则是以ITO Coating的PET或是玻璃来当材料,平常没使用的时候上下两 层是以绝缘体Spacer Dot来撑开, 要不然就会产生Constant Touch(游标固定 每一点)的问题。

179

Resistive Touchscreen

1. Polyester Film 2. Upper Resistive Circuit Layer

3. Conductive ITO (Transparent Metal Coating)
4. Lower Resistive Circuit Layer 5. Insulating Dots 6. Glass/Acrylic Substrate 7. Touching the overlay surface causes the (2) Upper Resistive Circuit Layer to contact the (4) Lower Resistive Circuit Layer, producing a circuit switch from the activated area. 8. The touchscreen controller gets the alternating voltages between the (7) two circuit layers and converts them into the digital X and Y coordinates of the activated area.

分辨率高,制造成本也高;可能响应迟钝,点触要有一定力量

180

电阻式TP制程示意图

通过将铟锡氧化物(ITO)镀膜玻璃与PET薄膜像三明治似地夹在一起,可 构建一个电阻式触摸屏
181

电容式触摸屏:
电容式简单,基本上是以ITO玻璃为主体,在ITO玻璃的四角放电,在表 面形成一个均匀的电场。当可以导电的物体,例如像是人的手指,吸走一点 微量的电流,后面的控制器则会算出电流被吸走的比例而算出X轴和Y轴。
手指、介电玻璃、电极 三者形成电容,移走部 分电荷,电路计算,确 定触摸点X、Y坐标。

182

电容式触摸屏技术分两种:
?表面电容式触摸屏(Surface Capacitive)技术 ?投射电容式触摸屏(Projective Capacitive)技术

表面电容式触摸屏,架构相对简单,采用一层ITO玻璃为主体,外围至少有四个电
控制器就能利用人体手指与电场静电反应所产生的变化,检测出触控坐标的位臵。表面 电容式技术无法实现多点触控功能,因为它采用一个同质的感应层,而这种感应层只会 将触控屏上任何位臵感应到的所有信号汇聚成一个更大的信号,同质层破坏了太多的信 息,以致于无法感应到多点触控。另,小型化困难。
183

极,在玻璃四角提供电压,在玻璃表面形成一个均匀的电场,当使用者进行触按操作时,

投射电容式触摸屏技术,是实现多点触控的希望所在。它的基本技术原理 仍是以电容感应为主,但相较于表面电容式触摸屏,投射电容式触摸屏采 用多层ITO层,形成矩阵式分布,以X轴、Y轴交叉分布做为电容矩阵,当 手指触碰屏幕时,可通过X、Y轴的扫描,检测到触碰位臵电容的变化, 进而计算出手指之所在。基于此种架构,投射电容可以做到多点触控操作。

Multi-touch technology,MTP

184

Derivations of Capacitive Touch Screens include:
?Surface Capacitance ?Projected Capacitance ?Mutual Capacitance (Derivative of Projected Capacitance) ?Self Capacitance (Derivative of Projected Capacitance)
Surface Capacitance One side of the insulator coating has a conductive layer. The conductive layer creates an electrostatic field on the glass
? ? ?

The electrostatic field changes when a human finger touches the surface

A sensor detects the change in the electro static field, and calculates the location of the touch
? ?

Common in Kiosks/Point of Sale (POS) systems Prone to false signals

185

Projected Capacitance
? Two types of Projected Capacitance: Mutual Capacitance and Self Capacitance ? Used in iPhone ? More accurate than surface capacitance ? Relies on an X-Y axis grid, etched onto the electrodes on the conductive material behind the glass ? Operates under screen protectors / vandal-proof glass ? Common in POS systems that require signatures (i.e self-checkout counters that require a digital signature) ? Sweaty finger tips (i.e from humid environments) decreases the touch screen accuracy

Mutual Capacitance
? Used in multi-touch applications (i.e iPhone) ? Requires two distinct layers of material to operate ? Capacitor on every row and column, creating a grid pattern across the screen (i.e. a screen with a 10-by-10 layout will have a total of 100 independent capacitors. ? The capacitors operate in unison, with the ability to register multi-touch ? Each capacitor can register its own touch points

Self Capacitance
? Similar to Mutual capacitance, but does not register multiple touch points ? Each column and row on the screen operates independently
186

Single Touch vs Multi Touch Gestures
Single touch gestures require one finger (i.e. panning, dragging, flicks). Multi touch gestures require two fingers (i.e. Zoom, rotate, two finger tap).
Recognize single and multi touch gestures

187

The iPhone uses both Mutual Capacitance and Self Capacitance technology to achieve multi touch gestures. Mutual Capacitance requires two layers of material: one layer for the Driving Lines, one layer for the Sensing Lines. Driving Lines provide current for the touch screen. Sensing Lines detect the current for the electric node layer. When the finger touches the screen, the Sensing Lines determine the location of where the touch occurred. Every point on the grid generates its own signal. From the grid, touch information is relayed back into the iPhone’s processor. The iPhone’s processor is integral in how the system interprets a touch on the screen. The Sensing Lines and Capacitance 技术 Mutual Driving Lines creates a coordinate grid for the iPhone 实现多点触控感应 CPU. This allows the phone to locate the

2007Mutual Capacitance screens rely on a grid system to determine where the touch occurs

188

裸指、绝缘物均能感应的触 摸屏? Mutual Capacitance 技 术 与 Self-Capacitance 技 术 相 结 合 就可做到这点!

Because iPhone relies on a capacitive touch screen, the screen operates only when a bare finger touches the screen. A gloved hand, or stylus will not activate a capacitive touch screen.
The combination of Mutual and Self Capacitance technology allows the iPhone processor to register multitouch functions.
189

Touch Panel 基本材料

190

ITO导电玻璃是生产触摸屏的关键材料之一
触摸屏用ITO玻璃(ITO GLASS FOR TOUCH PANEL) ITO 导电玻璃是在 钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上,利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟 锡(俗称ITO)膜加工制作成的。

191

TP型ITO玻璃剖面结构图:
TiO2高折光>2.4 SiO2低折光< 1.48 ITO折光率 1.73-2.08

632nmc处折光率

电容式TP用ITO导电玻璃性能指标: 品级Class HTTP500 HTTP500 TP500 TP150 面电阻(Ω/m2) 均匀性Uniformity 450-550 450-550 450-550 ≤150 (Rmax-Rmin)/2Avg≤12% (Rmax-Rmin)/2Avg≤12% (Rmax-Rmin)/2Avg≤12% (Rmax-Rmin)/2Avg≤16% 透过率 膜层厚度nm ≥98% ≥94% ≥90% ≥87% 120A±30A 120A±30A 120A±30A 2000A±30A
192

考试复习
基本概念问题: 光刻胶 、离子导体、聚酰亚胺 、压电材料、斯托克斯位移、顺磁性、反磁性、铁磁 性、激光(几种常见激光)、半导体、单晶硅(晶圆)、氮化镓GaN、液晶、 1. 超导材料就是在常温下电阻率为零的材料; 2. 金属铝是电阻率最小的导电材料; 3. 等离子显示器就是以等离子发射不同颜色可见光为工作原理的器件; 4. IC制造主要衬底材料是单晶硅片,俗称“晶圆”; 5. 快离子导体具有优良的电导性; 6. 聚乙炔的导电性通常需要通过掺杂方法来提高; 7. 介电材料是一种电导体; 8. 苯并螺吡喃化合物是一类光致变色材料; 9. 光导纤维都是用石英加工而得; 10. TFT-LCD中的彩色是依靠CF膜的滤光原理产生; 11. 微电子半导体一般采用光刻-掺杂等工艺方法制备; 12. 聚合物芯片可以由导电聚合物、半导体聚合物、绝缘聚合物组装而得; 13. 反斯托克斯位移违反能量守恒原理,不可能发生; 14.OLED核心结构包括ITO阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层、活泼金属构成 193 的阴极;

ITO、RFID、PCB、LED、PDLC、OLED、中英文意思? 杂质对金属导电性的影响一般规律? 常见导电高分子有哪些? 制造PCB的主要材料包括?

CD-R光盘所使用的感光颜料 主要有几类?
磁记录材料一般要求哪些主要性能? 硬盘用磁材 :?-Fe2O3、 Co- ?- Fe2O3 镀膜、Co-Ni-P膜、 Co-Pt-Cr、Co-Cr-Ta 简述TFT-LCD基本工作原理? Epaper? 磁光盘工作原理? 简述光纤基本结构与工作原理

194


相关文章:
Chapter 6 Practice Materials
Chapter 6 Practice Materials_财会/金融考试_资格考试...both (a) and (b) ANS: D DIF: Easy OBJ: ...信息材料 Chapter 6. Di... 194页 免费 Chapter6...
石墨烯信息材料
石墨烯信息材料_信息与通信_工程科技_专业资料。摘要...so in intelligent materials and information material...LCD display, and the application of solar cells,...
计算机在材料科学中的应用-用Materials Studio计算简单材料的能带 (2)
实验课程名称:计算机在材料科学与工程中的应用实验项目...display: Utility Menu: WorkPlane -> Display ...6. 关闭 MeshTool b、Toolbar: SAVE_DB (15) ...
CHAPTER 1 MATERIALS AND THEIR PROPERTIES(1)
CHAPTER 1 MATERIALS AND THEIR PROPERTIES(1)_工学_高等教育_教育专区。CHAPTER...This represents an immense family of engineering materials (工程材料)with a ...
中高级英语复习资料
如果两个 总管 分配系统 subchapter CFDS compress ...the work area when you use special materials. 当...Multifunction Control and Display Unit OAT: Outside...
半导体材料在信息时代的应用
半导体材料信息时代的应用_材料科学_工程科技_专业...Materials in the Informational Age devices. Many...Data display systems, data processing units, ...
材料科学与工程_专业英语_Unit_2_Classification_of_Materials译文
materials — composites, semiconductors, and ...A composite is designed to display a combination ...By high technology we mean a device or product ...
国际展会常见英文专业术语
“exhibit” and “booth” are often used interchangeably, an “exhibit” is actually all of the display materials and product house in booth——展位或...
材料导论英文全书
Materials, Components, and Devices... 错误!未定义...93 Chapter 6 Basic Solid-State Physics......Ceramics display negligible elongation in a tensile test....
更多相关标签:
adb devices | adb devices 没有设备 | devices | adb devices offline | analog devices | analog devices公司 | wearable devices | no bootable devices |